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第270章 光刻机的诱惑（第2页）

“你应该知道，”李一凡斟酌着说，“一旦你加入中微，美国政府很可能会以泄露商业机密的罪名起诉你。现在美国正在对中国半导体产业发起全面打压，他们不会允许核心技术向中国转移。”

“我当然知道这个风险。”威廉姆斯语气坚定，“但我已经六十三岁了，经历过太多政治干预科技发展的事情。这一次，我想站在正确的一边。”

“在我看来，科技创新不应该被任何国家垄断。中国有权发展自己的半导体产业。而且，根据我的了解，中微在刻蚀机领域的技术突破，表现出非凡的创新能力。我相信，只要有正确的方向和足够的投入，你们同样可以在光刻机领域取得突破。”

“这个时机选择得非常微妙。”李一凡有所意道，“就在昨晚，美国商务部刚刚对我们的刻蚀机业务施压。”

“正是如此。”威廉姆斯说，“现在的半导体产业已经被政治因素严重扭曲。在ASmL，我亲眼目睹了很多创新项目是如何被政治因素扼杀的。但科技创新不应该被地缘政治所束缚。中国作为世界第二大经济体，理应拥有自己的半导体制造能力。”

“不过，”他话锋一转，“发展光刻机可能比你想象的更难。这不仅需要巨额投入，还需要十年甚至更长时间的积累。”

“这一点我很清楚。”李一凡说道，“但正如您所说，科技创新不应该被垄断。我想请教的是，以中微目前的技术积累，进军光刻机领域有多大的可能性？”

威廉姆斯从公文包里提取了一份厚厚的文件：“这是我们团队准备的初步方案。坦白说，中微在刻蚀机上的技术突破给了很大信心。你们在我们控制、精密机械和光学系统等方面的积累，完全可以为发展光刻机打下基础。”

“而且，”他翻开文件，指着其中的技术路线图，“我们有一个全新的想法。传统光刻机的技术路线依赖于波长的长度，从深南方到极南方。但这条路越走越难，成本也越来越高。我们的团队提出了一个新的技术方案，通过创新的光学系统设计和光源捕捉技术，在保持现有光源的基础上，实现更高的精度。”

李一凡认真翻阅方案。作为重生者，他知道未来十年光刻机技术的方向发展。威廉姆斯团队提出的这个方案，竟然与十年后的主流技术路线惊人相似。

“这个方案在ASmL为什么没有推进？”

威廉姆斯苦笑一声：“政治人物。公司高层认为这个技术路线太具有创新性，如果成功，可能会降低光刻机的成本倾向。这不符合他们维持高利润的战略。更重要的是，他们担心这项技术会被中国企业模仿。”

“所以您选择了中微？”

“是的。”威廉姆斯点头道，“在我看来，中微是最理想的平台。你们不仅有传统的技术积累，更重要的是有突破创新的勇气。就像在刻蚀机领域，你们没有照搬美国的技术路线，而是开辟了一条全新的道路。这就是发展光刻机所需要的精神。”